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  • OYS-1200C-ⅢPECVD系統(tǒng)爐
    PECVD系統(tǒng)爐即等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積爐，是一種基于等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)的薄膜沉積設(shè)備，是一款三溫區(qū)開啟式管式爐，其最高溫度可以達(dá)到1200℃（1200℃1H）。
    更新時(shí)間：2024-10-31型號(hào)：OYS-1200C-Ⅲ廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
    現(xiàn)在聯(lián)系
  • GYS-1500C-IICVD系統(tǒng)（高真空）
    CVD系統(tǒng)（高真空）GYS-3Z+OYS-300F+(真空連接配件)1.包含一款通過CE認(rèn)證的高溫管式爐，2.包含一款GYS-3Z低成本的流量計(jì)控制系統(tǒng) 3.包含一款OYS-300F風(fēng)冷分子泵機(jī)組參數(shù)表。
    更新時(shí)間：2024-10-31型號(hào)：GYS-1500C-II廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
    現(xiàn)在聯(lián)系
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